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SFQ系列濕化學(xué)處理設(shè)備
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發(fā)布時(shí)間：2022年12月22日
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產(chǎn)品型號(hào)：SFQ-XXXXXXX
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：具有豐動(dòng)，半自動(dòng)及全自動(dòng)一種配置，涵蓋半導(dǎo)體清洗，溫法腐蝕去膠顯影，電鍍(ECD)和化學(xué)鍍等多種混化學(xué)工藝?？筛鶕?jù)用戶要求提供包括設(shè)備配置、技術(shù)性能、工藝支持等全套解決方案。
應(yīng)用領(lǐng)域：該產(chǎn)品應(yīng)用于集成電路、半導(dǎo)體器件、半導(dǎo)體材料、MEMS、先進(jìn)封裝和半導(dǎo)體材料制造等領(lǐng)域。
核心參數(shù)：晶圓材料： GaAs、InP、Sic、GaN、Si、藍(lán)寶石、鉭酸鋰、鈮酸鋰、半導(dǎo)體陶瓷
晶圓尺寸：6英吋～12英吋；
化學(xué)溫度：-10℃~240℃，精度：±0.5~2℃；
化學(xué)過(guò)濾器：0.05μm；
8英吋Wafer表面≥0.12 μm Partical ≤20pcs；
Wafer表面總金屬含量≤1*E10 atoms/cm2；
機(jī)械手定位精度≤0.3mm
機(jī)械手傳片時(shí)間：小于3秒
自動(dòng)比例供液/補(bǔ)液精度：±2%
聯(lián)系人：李旭鵬 聯(lián)系方式：18611141422
