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集群式磁控濺射臺
來源：
發(fā)布時(shí)間：2022年10月12日
瀏覽次數(shù)：
產(chǎn)品型號：M79200-3/UM
產(chǎn)品簡介：設(shè)備特點(diǎn)：1、可根據(jù)工藝需要自由配置工藝模塊；2、良好的臺階覆蓋能力；3、高效基片調(diào)度能力和友好的人機(jī)操作界面。
應(yīng)用領(lǐng)域：用于硅基集成電路和化合物半導(dǎo)體器件金屬電極制備工藝，如Au、Al、NiCr、TiW、Ti、TiN、 AICu、TaN等薄膜
核心參數(shù)：1、晶片尺寸：8"（兼容6"）;
2、工藝腔數(shù)量：2?5個(gè)；
3、濺射腔極限真空：≤6.67E-6Pa;
4、基片臺控溫：RT~400°C;
5、膜厚均勻性：≤±5%。
聯(lián)系人：李富石 聯(lián)系方式：15973176321
