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立式LPCVD

來源:     作者:石小川     發(fā)布時間:2022年10月12日     瀏覽次數(shù):         

產(chǎn)品型號:M51200-4/UM

產(chǎn)品簡介:設(shè)備特點:1、全自動傳送,定位精準(zhǔn),穩(wěn)定可靠;2、高潔凈工藝環(huán)境;3、設(shè)備內(nèi)部形成局部凈化環(huán)境,有效控制污染;4、工藝氣體充分預(yù)熱,氣氛均勻,精確溫控; 5、薄膜均勻性佳。

應(yīng)用領(lǐng)域:用于集成電路制造中的堅膜氧化層、多晶硅淀積;適用工藝有TEOS、Poly、SiNo

核心參數(shù):1、晶片尺寸:8"(兼容6 ");

                  2、典型工藝溫度:500°C~800°C ;
                  3、恒溫區(qū)長度:≥860mm;
                  4、單點控溫精度:≤±0.5°C;
                  5、最大載片量:170片;
                  6、極限真空:≤20mtoir;
                  7、新增顆粒:≤30 ( ≥0.2um);
                  8、金屬污染:<5E10atm/cm2

聯(lián)系人:李富石        聯(lián)系方式:15973176321