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掃描式磁控濺射設(shè)備
產(chǎn)品型號:RSP-100型
產(chǎn)品簡介:PVD又稱物理氣相沉積,RSP-100為多靶水平磁控濺射系統(tǒng),專為實(shí)驗(yàn)室工藝研發(fā)、材料開發(fā)等功能開發(fā)的一款多功能實(shí)驗(yàn)性平臺,可滿足自動往復(fù)多次鍍膜的要求。
應(yīng)用領(lǐng)域:新能源-光伏產(chǎn)業(yè)鏈生產(chǎn)企業(yè)
核心參數(shù):型號:RSP-100
成膜種類:ITO/AZO/IZO/NiO2/Cu等
載板規(guī)格:210×210 mm,載片量2×2=4片
膜厚范圍:20-110nm
膜厚均勻性:5%(片內(nèi))、5%(片間)、5%(批間)
極限真空度:≤1E-4Pa
靶基距:75mm-90mm可調(diào)
陰極配置:平面靶、旋轉(zhuǎn)靶
溫度范圍:25-350℃
聯(lián)系人:黃凌飛 聯(lián)系方式:18684881206