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掃描式磁控濺射設(shè)備

來源:     作者:石小川     發(fā)布時間:2022年10月11日     瀏覽次數(shù):         

產(chǎn)品型號RSP-100型

產(chǎn)品簡介:PVD又稱物理氣相沉積,RSP-100為多靶水平磁控濺射系統(tǒng),專為實(shí)驗(yàn)室工藝研發(fā)、材料開發(fā)等功能開發(fā)的一款多功能實(shí)驗(yàn)性平臺,可滿足自動往復(fù)多次鍍膜的要求。

應(yīng)用領(lǐng)域:新能源-光伏產(chǎn)業(yè)鏈生產(chǎn)企業(yè)

核心參數(shù):型號:RSP-100

                 成膜種類:ITO/AZO/IZO/NiO2/Cu等
                 載板規(guī)格:210×210 mm,載片量2×2=4片
                 膜厚范圍:20-110nm
                 膜厚均勻性:5%(片內(nèi))、5%(片間)、5%(批間)
                 極限真空度:≤1E-4Pa
                 靶基距:75mm-90mm可調(diào)
                 陰極配置:平面靶、旋轉(zhuǎn)靶
                 溫度范圍:25-350℃

聯(lián)系人:黃凌飛        聯(lián)系方式:18684881206